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PVD真空镀膜

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PVD真空镀膜的简单介绍

来源:www.hx-pvd.com 发表时间:2023-02-02

 PVD真空镀膜采用物理气相沉积的原理,在产品表面形成微米级的薄膜,使得镀膜后的产品具有很高的硬度。
 PVD镀膜具有高质感、高耐磨性(低摩擦)、高耐腐蚀性等优点,不仅增加了产品的美观性和功能性,还延长了产品的使用寿命,增加产品因其商业价值被应用于各行各业。那么薄膜到底是怎么覆盖产品表面的?
 PVD真空镀膜是在真空炉中实现的一种膜层。通过合适的夹具将涂覆的产品固定在架子上,清洗并放入真空炉中。排空炉体,关闭炉门,调整各种参数,抽真空,炉内辉光清洁,采用低电压大电流电弧放电技术,使用气体放电使靶材蒸发,使被蒸发的物质和气体电离,通过电场的加速使被蒸发的物质和反应物沉积在产品表面。经过固定的时间,就是烘焙后顾客想要的颜色。

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