一、概念的差异

1.真空镀膜是指在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀零件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发凝结形成薄膜的方法。

2.光学镀膜是指在光学零件表面镀一层(或多层)金属(或电介质)膜的过程。光学零件表面镀膜的目的是减少或增加对光的反射、分光、分色、滤波和偏振的要求。常用的涂层方法有真空镀膜(一种物理涂层)和化学涂层。

二、原则的差异

1.真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它是以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控管等一系列新技术的薄膜制备新技术。提供科学研究和实际生产。简单来说，就是在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物，使其固化并沉积在有涂层的物体上的方法(称为基底、衬底或衬底)。

2.光干涉广泛应用于薄膜光学。光学薄膜技术的常用方法是通过真空溅射的方式在玻璃基板上镀膜，一般用于控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需求。为了消除光学零件表面的反射损耗，提高成像质量，涂覆了一层或多层透明介质膜，称为抗反射膜或抗反射膜。随着激光技术的发展，对薄膜的反射率和透过率有了不同的要求，推动了多层高反射薄膜和宽带抗反射薄膜的发展。为了满足各种应用的需要，高反射膜被用于制造偏振反射膜、分色膜、发光膜和干涉滤光片。涂覆在光学零件表面后，光在各层上多次反射和透射，形成多光束干涉。通过控制各层的折射率和厚度，可以获得不同的强度分布，这是干涉涂层的基本原理。