PVD镀膜，也称呼“物理气相沉积镀膜”，这种镀膜工艺的应用范围较广，局限性较小，但真正了解它的人不多，了解PVD镀膜设备的更是少之又少，下面小编为大家详细介绍一下，希望能帮助到大家：

PVD镀膜三大分类：真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空蒸发镀膜。

PVD镀膜所使用的设备：通常叫做PVD真空镀膜设备或者是PVD真空镀膜机

PVD镀膜原理：处在真空环境下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用对蒸发源的加热或者利用辉光放电、离子轰击使镀制材料沉积在需镀制的产品表面。

PVD镀膜能够镀制的膜层：它能够镀制各种单一的金属膜层（金、银、铝、锌、钛等），氧化物膜层（TiO等），碳化物膜层（TiC、TiCN等），氮化物膜层（TiN、CrN、TiAiN等），膜层颜色可以是单色也可以镀制七彩色。膜层厚度为微米级，真空镀膜的厚度较薄，镀制的膜层几乎不影响产品的尺寸。

真空溅射镀膜：

放电时溅射技术的基础，溅射一般都是在辉光放电过程中产生的，溅射是用带有高动能的粒子或者离子束轰击固体表面，使靠近固体表面的原子获得入射粒子所 ,带能量的一部分而脱离固体进入真空并沉积在产品上。

影响溅射效果的因素：1.靶材；2.轰击离子的质量；3.轰击离子的能量；4.轰击原子的入射角。

真空离子镀膜：

离子镀是在蒸发镀和溅射镀基础上产生的新镀膜技术，真空PVD镀膜过程都是在等离子体中进行的，离子镀可以获得优异性能的膜层，其膜层特点：

1.表面光洁度好，沉积的厚度可以严格控制；

2.膜的附着力强，结合力高；

3.膜层厚度均匀，无边界效应；

4.膜层的致密度高。

真空蒸发镀膜：

在真空室内，对蒸发源的薄膜原材料进行加热从而形成原子或者分子蒸气流入射到产品表面凝结形成固态薄膜的方法。

优点：蒸发设备较便宜，操作简单，成膜速率快，镀制的膜层纯度高、质量好并且可以控制厚度；

缺点：膜层附着力较低，工艺重复性不够好，不容易获得结晶结构的薄膜层。

对于这三种PVD镀膜工艺来说，不同的产品需要选择不同的工艺，配置专门的设备。PVD镀膜设备由真空腔体、电源系统、控制系统、冷却系统、真空获得系统及零部件组成，价格不一。