在PVD镀膜过程中，对膜层应力加以管控极为关键。一旦应力超出合理范围，便可能致使膜层出现破裂、脱离等不良状况。
 一，借助对工艺参数的优化来实现管控目标，像对沉积速率、温度以及气体流量等方面进行调节，降低沉积速率能够在一定程度上减轻应力的生成。
 二，审慎挑选适配的靶材与反应气体，毕竟不同的材料搭配会对膜层应力状况产生影响。
 三，运用多层膜构造规划，凭借各异的材料与膜层厚度的组合形式，促使应力达成相互抵消与平衡的效果。
 此外，在镀膜操作完成后进行适当的退火处理，这样能够切实地释放膜层内部的应力，从而增强膜层的稳固程度与使用周期，保障PVD镀膜的质量与性能。