在真空镀膜作业时，膜层产生针孔缺陷会对产品的性能与外观造成不良影响。针孔形成的因素有：基片微观层面存在孔洞及划痕，导致镀膜阶段膜料难以均匀附着；镀膜室的真空程度不足，气体分子在膜层沉积期间混入其中，从而产生针孔；膜料自身纯度不够或含有杂质，同样会造成膜层出现针孔现象。
 对此，可采取以下措施进行应对：一，针对基片实施精细研磨和抛光等预处理流程，以填补其表面微小的孔洞与划痕；二，提升镀膜室的真空度，采用更加好的真空泵系统，并定期对设备的密封性能展开检测与维护；三，挑选高纯度的膜料，并在镀膜前对其进行全面的预处理操作，例如烘烤去潮、进行筛选等，剔除杂质，由此切实降低膜层中针孔缺陷的出现几率。