在PVD真空镀膜作业期间，气体流量的把控至关重要。若气体流量偏高，会致使真空环境的真空度下滑，从而令镀膜原子以及离子的平均自由行程缩减，其与气体分子碰撞的概率大幅上升，这对膜层的沉积效率以及均匀程度均会产生影响，使得膜层质地疏松且附着力减弱。
 而气体流量过小，参与反应的气体不足，难以生成充足的化合物来确保膜层具备良好性能，如此一来，膜层的硬度与耐磨性等指标会随之降低，并且可能出现颜色不均的状况。所以，为获取高质量的PVD真空镀膜成果，须准确控制气体流量，结合具体的镀膜材料、工艺和基材等要素，找到合适的气体流量值。