pvd真空镀膜的基本原理主要是物理学液相沉积，其是当今国际性上广泛运用的优秀的金属表面处理技术性。其原理便是在真空泵标准下，运用汽体充放电使汽体或被蒸发化学物质一部分离化，在汽体离子或被蒸发化学物质离子负电子功效的另外把蒸发物或其生成物沉积在板材上。pvd真空电镀具备沉积速度更快和表层清理的特性，尤其具备膜层粘合力强、绕性好、可镀原材料普遍等优势。选用全世界优秀的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺技术，及在这个基础以上与国际性权威专家的加工工艺自主创新。凭着在装饰设计镀领域十多年的珍贵工作经验，为顾客出示合适的镀层生产加工计划方案。pvd真空电镀抗氧化性，耐腐蚀，抗腐蚀，有机化学特性平稳，抑酸。手机壳PVD镀膜抵抗能力，镀膜机壳非常容易消除漆料和指纹识别。在明显的太阳，咸的湿地公园和大城市自然环境下，也不无光泽，不空气氧化，不退色，不掉下来。高宽比抗磨损，耐刮擦，不容易刮伤。可镀原材料普遍，与基材结合性强。