1.什么是PVD镀膜技术?

答: PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”, 是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件_上的薄膜制备技术。

2.PVD技术都有那些分类?都有什么PVD真空镀膜机?

答: PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类,相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年来,真空离子镀技术的发展是最快的,它已经成为了当代*********的表面处理方法之一。

3.PVD镀膜的具体原理是什么?

答:物理气相沉积是一种物理气相反应生长法,沉积过程是在真空或低气气体放电条件下,涂层物质源是固态物质,经过“蒸发或溅射”后,在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。

4.PVD镀膜与传统的化学电镀(水电镀)相比有何优点?

答: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是,两者都属于表面处理的范畴，都是通过一 定的方式使一种材料覆盖在另-种材料的表面。两者的不同点是: PVD真空镀膜机镀膜膜层与工件表面的结合力更大,膜层的硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性更好,膜层的性能也更稳定; PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛,可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮; PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。