在PVD真空镀膜期间，高温以及离子轰击等情况，有可能让基材表面原子获取充足能量，进而变得活跃起来。与此同时，镀膜材料的原子活性也较高，这样它们在界面处就会相互渗透，从而导致相互扩散。
 除此之外，要是PVD真空镀膜的时长太久，或者温度把控出现问题，这种现象还会进一步恶化。这会对膜层的性能与附着力造成影响。要减少相互扩散的程度，可以对工艺参数进行优化，比如准确控制镀膜的温度、时长以及离子能量等。