PVD真空镀膜颜色不均匀的原因包括：
 1.靶材的分布不均匀，导致镀膜时不同区域的沉积速率不同。
 2.真空室里的气体分布不均匀，影响了膜层的生长。
 3.基片的表面平整程度不够，使膜层的厚度存在差异。
 解决办法如下：
 1.合理地布置靶材的布局，保证靶材在真空室内均匀分布，从而使镀膜各区域的沉积速率保持一致。
 2.对真空室内的气体流场进行优化，通过调整气体进气口的位置以及调控气体流量，使气体分布均匀。
 3.提高基片表面的平整度，预先对基片进行处理，像进行研磨、抛光之类的操作，保证基片表面平整，让膜层厚度实现均匀。