真空镀膜的应用是在真空环境中，在金属、玻璃、陶瓷、半导体和塑料零件上涂上金属薄膜或覆盖层。与传统的涂层方法相比，真空涂层的应用是一种干涂层，其主要方法包括以下几种：
 真空蒸镀
 其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接进入基底，并沉积在基底上沉淀固态薄膜。
 溅射镀膜
 溅射涂层是在真空条件下，将2000V高压电连接到阴极上，刺激辉光放电。带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子。溅射的原子通过惰性气氛沉积在基板上，形成膜层。
 离子镀膜
 也就是说，干螺杆真空泵制造商已经介绍了真空离子涂层。它是在上述两种真空涂层技术的基础上发展起来的，因此具有两种工艺特性。在真空条件下，工作气体或蒸发物质（膜材料）被气体放电分离，蒸发物或其反应物在离子轰击下沉积在基板表面。在膜的形成过程中，基板总是受到粒子的轰击，非常干净。
 真空卷绕涂层
 真空卷绕涂层是一种利用物理的气相沉积在柔性基体上连续涂层的技术，从而实现柔性基体的一些功能性和装饰性。
 以上四种属于物理的气相沉积技术的应用（PVD）。
 接下来是化学气相沉积（CVD）。它以化学反应的方式制作薄膜。原理是在达到某个特定的温度下，将含有薄膜材料的反应气体连接到基底并被吸附，在基底上产生化学反应形成核，然后反应生成物从基底表面扩散形成薄膜。
 束流沉积镀是一种结合离子注入和气相沉积涂层技术的离子表面复合处理技术。它是一种利用离化粒子作为蒸发材料，在相对较低的基底温度下形成具有良好特性的薄膜的技术。