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磁控溅射真空镀膜机如何解决不均匀性问题？
来源：www.hx-pvd.com 发表时间：2023-10-14
1，尽量保证磁场的均匀性和方向一致性，形成相对均匀的空间磁场。
2，尽量保证气压的均匀性。在设计真空腔时，应考虑真空泵的安装位置、工艺气体进气方式和腔内工艺气管的布局。
3，由于磁场和气压不能都理想，可以通过气压不均来补偿磁场不均匀，使膜均匀。
4，靶基距也是影响均匀性的重要因素。
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