PVD工艺溅射是物理气相沉积技术的另一种方式，溅射的过程是由离子轰击靶材表面，使靶材材料被轰击出来的技术。惰性气体，如氩气，被充入真空腔内，通过使用高电压，产生辉光放电，加速离子到靶材表面，氩离子将靶材材料从表面轰击（溅射）出来，在靶材前的工件上沉积下来，通常还需要用到其它气体，如氮气和乙炔，和被溅射出来的靶材材料发生反应，形成化合物薄膜。溅射技术可以制备多种涂层，在装饰涂层上具有很多优点（如Ti、Cr、Zr和碳氮化物），因为其制备的涂层非常光滑，这个优点使溅射技术也广泛应用于汽车市场的摩擦学领域（例如，CrN、Cr2N及多种类金刚石（DLC）涂层）。能量离子轰击靶材，提取原子并将它们转化为气态，利用磁控溅射技术，可以对大量材料进行溅射。
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